1.透過顯影液(TMAH.KOH.K2CO3)有效的去除光阻,來達成曝光之圖形
2.不同的製程來選用最佳化的噴嘴或液刀,並以特殊的噴灑設計來達到最佳的均勻性
3.消泡.純水清洗.抽風流體力學及藥液防止外洩 為設計重點,能確保產出基板品質,使基板狀態能符合下個製程的需求條件
4.優越的顯影均勻性
5.採用內外槽體安全性設計
6.設備稼動率及產品良率符合客戶規範
7.確保下段製程的潔淨需求,可達到無MURA.無輪痕及無水痕
8.產速可依照客戶端的需求進行設計,專利擺動式噴灑.可調式產速設計及藥液監控系統
9.製程條件上有更優化的搭配
