新一代離子型非接觸乾式清潔系統應用 - 半導體製程與電路板實現「超高潔淨度」

31 March, 2021

近來，台積電半導體的製程從 3 奈米推進 2 奈米，並宣告將在新竹成立2 奈米製程研發中心，半

導體製程相關設備的需求，再次高度密集的被關注。過去針對無塵室廠房( 潔淨室廠區) 的等級不斷往

超高潔淨邁進，無塵室等級分類標準Fed.Std-209E 已廢止，以ISO-14644:2015 演進與取代，其中

一般俗稱的Class1000、100 甚至Class1 在新標準中也僅能為第3 個等級。現存的非高標準的潔淨廠

房，如何進行除塵，成為半導體相關產業研擬製程改良的目標。同時，電路板相關業者也針對PCB、

PCBA 的清潔方式，也多有所關注，從傳統的接觸式防靜電毛刷、簡易除靜電風扇... 等等，面對3C 產

品製程高密度、輕薄化趨勢，以上方式漸已無法符合客客戶要求。

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