● 3um particle 去除率高達99%以上。 ● 免維修、低損耗、空間易配置。 ● 氣流平衡設計，Particle不外流。 ● 非接觸式除塵，無損傷材質疑慮。 ● 可配合客戶設備空間，客製化設計。
● 導電膜、玻璃、WAFER等製程段清潔。
HEAD 清潔示意圖示
