main

Roll-to-Roll 超音波清潔系統

適用於Film、網印等製程前段或切割製程後段及Roll-to-Roll製程,有效去除產品的Particle,提升基板整體製程良率。

● 3~5 um particle 去除率高達99%以上
● 免維修、低損耗、空間易配置
● 流體平衡設計,氣體不外漏
● 非接觸式設計,無損傷材質疑慮