針對各種微小之物件，如形狀複雜有間隙孔穴不易清洗之物品，利用真空及蒸氣原理，以洗劑(HFE-7200)洗淨之。但無法清洗有鍍膜或接著劑(有機物)之晶片。 ．觸控螢幕介面人性化，操作簡單，上手容易 ．搭配超音波水洗清洗，去污力提升 ．連續式清洗一次完成，方便作業性及提高產能 ．全機高潔淨度設計，提高產品良率

機台尺寸	1300(L)×1300(W)×1910(H)mm
機台重量	約800 kg
操作方式	PLC系統控制，10.1"彩色觸控螢幕操作
電源需求	3相 AC220V 50/60Hz
氣壓需求	Air 5~7 kg/c㎡
冷卻水需求	1  kg/c㎡、40 L/min、15 ℃
氮氣需求	250 L/min、2  kg/c㎡
無塵等級	Class 1000
Cycle time	30 min/次
清洗槽尺寸	ψ300×H240mm (可放置7個×2層洗淨籠)
清洗配備	裝置超音波、蒸氣產生器、真空泵浦
洗劑	HFE-7200