真空電將清洗機 MAPS-1 Ar MAPS-1 CDA MAPS-RPP375 MAPS-DR630 5 電漿技術介紹 水滴角量測儀
遠端寬幅大氣電漿 MAPS-RA SERIES
低溫電漿。 使用N2+O2氣體。 處理素玻璃水滴角<10度 (處理前水滴角<30度，處理速度3m/min) 。 可依客戶需求進行設計製造。 適用導體及非導體材料表面清潔及改質。 適用ITO、Cr微細圖案電極、CF玻璃表面清潔及改質。 LCD或OLED玻璃大面積無損傷表面清潔與改質處理。 改善CF表面親水性，增加ITO鍍膜附著力 其他表面清潔及改質與粗化。 ITO之表面清潔、改質。 替代傳統UV Cleaner洗淨。
韶陽狹縫式寬幅大氣電漿系列， 使用DBD (Dielectric Barrier Discharge)方式， 幾乎無電極消耗， 透過電場對氣體作用產生電漿， 電極本身無電弧(Arc)產生， 幾乎無耗損問題，亦無污染問題。
電漿架構示意圖
處理前 處理後
大氣電漿由於不需要真空系統，可應用於in-line生產線上，具有低成本、高產量的優勢，加上電漿本身具有高反應性，因此，可應用於光電半導體與其他民生產業上。 體積小，容易安裝於現有設備上；可連續處理、效能高。應用例如下: CF玻璃清潔處理 遠端電漿反應器系統組成
大氣電漿由於不需要真空系統，可應用於in-line生產線上，具有低成本、高產量的優勢，加上電漿本身具有高反應性，因此，可應用於光電半導體與其他民生產業上。
體積小，容易安裝於現有設備上；可連續處理、效能高。應用例如下: CF玻璃清潔處理
遠端電漿反應器系統組成
MAPS-RA120 MAPS-RA370 MAPS-RA550 MAPS-RA650 電源 220V±10%(三相) 功率 2kW 使用氣體 N2，N2+O2 氣體壓力 5kgf/cm² (Min) 冷卻需求 水冷 (20 L/min，20℃ ) 處理寬度 120(Max) 370(Max) 550(Max) 650(Max) 外觀尺寸
MAPS-RA120
MAPS-RA370
MAPS-RA550
MAPS-RA650
電源
220V±10%(三相)
功率
2kW
使用氣體
N2，N2+O2
氣體壓力
5kgf/cm² (Min)
冷卻需求
水冷 (20 L/min，20℃ )
處理寬度
120(Max)
370(Max)
550(Max)
650(Max)
外觀尺寸
PLASMA
