MEC-100  常壓離子清洗機

 


       以快速又穩定的機構,搭配高品質的電漿清洗頭,給後續的貼合製程更高的良率,也提升更高的產品穩定性與附加價值。


.自動化In line線機台,產能提升
.CCD影像自動對位功能,高精度、高良率
.高潔淨度設計,提高產品良率
.觸控螢幕介面人性化,操作簡單,上手容易  
.濕式洗淨可同時擦拭清潔產品兩面  
.大氣電漿清潔效能優異,處裡速度快  
.依客製化需求,機台設計可依產品尺寸大小做變化



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機台尺寸

1500(L)×1400(W)×1700(H)mm

機台重量

1000 kg

操作方式

PC系統控制,12.1"彩色觸控螢幕操作

電源需求

三相 AC220V 50/60Hz

氣壓需求

Air 5~ 7 kg /c

真空需求

-75kpa以上

無塵等級

Class 1000

Cycle time

8sec/2

產品尺寸

1.3~3.5

LCD Stage平面度

0.03mm

LCD StagePin機構

XY軸靠Pin精度± 0.02mm

搬運機構

定位精度± 0.02mm

CCD自動對位調整

對位精度± 0.01mm

光源形式

LED可調式RGB光源

擦拭端面機構

清洗方式 WET+WIP(溶劑+清潔布)

擦拭精度

距離上片的距離 0.5mm以內

電漿清潔模組

APS大氣電漿清洗機

清潔方式

大氣Plasma乾式清洗

APS電源需求

單相 AC220V 50/60Hz

APS清潔能力

水滴角 素玻璃15°  ITO玻璃25°

APS清潔寬度

9± 1mm