真空電漿清洗機 MPSM-CA050

 



1. 高密度電漿源，製程氣體用量少，低功率與短時間即
    可達到清潔效果，符合綠能經濟與生產效益。
2. 架構簡單，電漿均勻性佳，不會產生Arc破壞基板，維
    護容易，機台可靠性高。
3. 單一批次可以多層放置，提高單批次產能競爭力。
1.ITO玻璃表面清潔。
2.電子元件、光電元件、IC封裝貼合前清潔。
3.鍍膜前表面清潔、粗化及接枝改質。
4.有效改善印刷或黏著前表面粗化及清潔，提升親水性。 5.無自由電子轟擊，可適用生醫材料處理。









電漿實景 / 操作畫面

處理效果實景圖

項目

規格

機台尺寸

1100(L)x 1200(W)x 2100(H) mm

操作方式

PLC系統控制，人機介面操作

電源需求

220V三相60Hz，<50A

製程氣體

氧氣，依製程不同，可使用不同氣體，MFC控制

破真空氣體

N2或CDA，5 kgf/cm²，200 L/min，可客製化

冷卻水

3~5 kgf/cm²，>5 L/min，18~22℃

有效處理空間

400(L)x 420(W)x 420(H) mm

批次處理時間

2.5~5 min，依照設定清潔時間而定


外觀尺寸