ディスプレイ業界では、基板表面の洗浄が水洗いと光り洗浄(UVライト)及びプラズマ洗浄有り。下記の内容はUVライトの洗浄及びプラズマ洗浄についての紹介です。

UVライト洗浄は紫外線の短波のエネルギーを利用して、空気中の気体分子のエネルギーでオゾンの産生を向上し、酸素の原子と表面有機物の結び付を利用して、

二酸化炭素や水になります、工場システムの排出により、基板表面の洗浄を達し。UVライト使用過程には大量なオゾンが産生し、UVライトには

使用期限が有り、取替えにもし難い、ランニングコストもやや高い。UVライト洗浄の原理は下図のように表す。

 

       

プラズマ洗浄には、電子が電離した中性のラジカルと呼ばれる活性な状態で処理物の表面に改質し、

表面上の有機汚染物を二酸化炭素や水になり、工場システムの排出により気体を排出し。 

下表のような実験結果からみれば、高温 (HITO)や低温(LITO)ガラスには、プラズマの洗浄やUVライトの洗浄或い水洗いなどの洗浄処理には、その表面の接触角の角度が全数10度以下に達します。但しカラーフィルター

表面の保護カバーOver Coat(OC)に対して、UVライト洗浄や水洗いの場合の接触角度が改善しません、プラズマ洗浄の場合はその洗浄度を改善します。